Visokotemperaturna metoda čiščenja za ekstrakcijo grafita

Tališče grafita je 3850 ℃ ± 50 ℃, ki je ena izmed snovi z najvišjim vreliščem v naravi, kar je veliko višje od vrelišča nečistočega silikata. Z uporabo njihove razlike v tališču in vrelišču se grafit postavi v grafitiziran grafitni lonček, v določeno atmosfero, segreto na 2700 ℃ s posebnimi instrumenti in opremo, nečistoče se lahko uparijo in uidejo iz grafita, učinek čiščenja pa lahko biti dosežen. . Ta tehnologija lahko očisti grafit na več kot 99,99%.

Visokotemperaturno čiščenje grafita, kakovost izdelka je visoka, vsebnost ogljika lahko doseže več kot 99,995%, to je največja značilnost visokotemperaturne metode, hkrati pa porabi veliko energije in zahteva izjemno visoka oprema, ki zahteva posebno zasnovo in velike naložbe. Surovine imajo tudi določene zahteve. S to metodo je mogoče očistiti samo grafit, ki se uporablja na visokotehnoloških področjih, kot so nacionalna obramba, vesoljska in jedrska industrija.